光化学反应仪是光化学研究、材料合成、环境治理等领域的核心设备，其操作的规范性直接影响实验结果的可靠性、设备寿命及操作人员安全。实际操作中，因参数设置不当、样品处理不规范、安全防护缺失等问题导致的实验失败、设备损坏甚至安全事故频发。本指南聚焦
光化学反应仪操作中的高频“坑点”，提供针对性避坑策略，助力实验人员规范操作流程，规避风险，保障实验高效安全开展。
开机准备避坑：筑牢实验基础防线。常见“坑点”包括未检查光源状态直接开机、忽视反应腔密封性检测、冷却系统未提前调试。避坑策略：开机前必须核查光源（汞灯、氙灯等）的点亮状态、使用寿命，若光源出现闪烁、发黑等老化迹象需及时更换；通过气密性测试确认反应腔密封垫无破损、螺栓紧固均匀，避免反应过程中反应物泄漏或氧气进入影响实验；提前启动冷却系统（水冷或风冷），待温度稳定在设定范围（通常20-30℃）后再启动光源，防止光源因过热损坏，同时避免高温导致样品变性。
参数设置避坑：精准匹配实验需求。核心“坑点”为波长选择偏差、功率调节不当、反应时间设置不合理。避坑策略：根据实验反应类型精准选择光源波长，例如降解有机污染物优先选用254nm紫外光，光催化合成多选用365nm或可见光，避免波长不匹配导致反应效率低下；功率调节需循序渐进，从低功率逐步升至目标功率，禁止瞬间满功率启动，防止光源过载烧毁，同时根据样品浓度、反应体系体积合理匹配功率，避免功率过高导致样品局部过热；结合预实验结果设定反应时间，避免盲目延长时间造成产物过度反应，或时间不足导致反应不充分，必要时设置中间取样检测节点。
样品与操作避坑：规避污染与安全风险。高频“坑点”包括样品预处理不全、反应腔清洁不到位、操作过程中随意开盖。避坑策略：样品需经过过滤、除杂、干燥等预处理，去除颗粒物、杂质及水分，防止污染反应腔或堵塞光路；每次实验后用无水乙醇、丙酮等适配溶剂清洁反应腔内壁及透光窗口，避免残留样品影响后续实验，清洁时禁止使用硬质工具刮擦透光窗口；实验过程中严禁随意开启反应腔盖，尤其是光源运行时，防止紫外光直射造成人体损伤，同时避免反应体系与空气接触引发副反应；若需添加试剂，需先关闭光源、待温度降至室温后再操作。
关机收尾与维护避坑：延长设备寿命。常见“坑点”为直接断电关机、忽视光源冷却、长期不维护核心部件。避坑策略：严格遵循关机流程，先关闭光源，待光源全冷却、冷却系统运行一段时间后再关闭电源，避免高温损伤光源及电路；定期更换冷却介质（水冷系统需定期换水并添加防腐剂），清理冷却管路杂质，保障散热效果；按设备说明书要求定期更换光源、密封垫等易损部件，建立设备使用台账，记录每次实验参数、故障情况及维护内容。遵循以上避坑指南，可有效减少实验失误与设备故障，较大化光化学反应仪的使用价值，为实验研究提供可靠保障。
